1、授權(quán)專利明細(xì)表
序號(hào) | 專利類別 | 專利名稱 | 專利號(hào) | 專利狀態(tài) | 申請(qǐng)日期 | 授權(quán)日期 |
1 | 發(fā)明 | 一種多元低溫共燒陶瓷LTCC微波射頻電路及使用其的方法 | ZL201510400788.X | 授權(quán) | 2015/7/8 | 2017/11/6 |
2 | 發(fā)明 | 一種抗干擾可調(diào)巨磁阻效應(yīng)電流傳感器 | ZL201510393733.0 | 授權(quán) | 2015/7/3 | 2017/11/7 |
3 | 發(fā)明 | 一種調(diào)諧天線及調(diào)諧方法 | ZL201510220934.0 | 授權(quán) | 2015/4/30 | 2017/6/30 |
4 | 發(fā)明 | 一種超高頻和高頻射頻識(shí)別標(biāo)簽及其信號(hào)傳輸方法 | ZL201510218400.4 | 授權(quán) | 2015/4/30 | 2017/9/26 |
5 | 發(fā)明 | 一種低頻射頻識(shí)別標(biāo)簽及信號(hào)發(fā)送方法 | ZL201510216963.X | 授權(quán) | 2015/4/30 | 2017/12/21 |
6 | 發(fā)明 | LTCC功率電感器件基體與陶瓷介質(zhì)材料匹配共燒方法 | ZL201510140967.4 | 授權(quán) | 2015/3/27 | 2017/3/15 |
7 | 發(fā)明 | 一種金屬基薄膜傳感器的制備方法 | ZL201510104491.9 | 授權(quán) | 2015/3/10 | 2017/6/9 |
8 | 發(fā)明 | 一種流體環(huán)境影響下的群體行為控制方法 | ZL201410564384.5 | 授權(quán) | 2014/10/22 | 2017/7/25 |
9 | 發(fā)明 | 一種流體環(huán)境下人體運(yùn)動(dòng)仿真方法 | ZL201410568918.6 | 授權(quán) | 2014/10/22 | 2017/8/15 |
10 | 發(fā)明 | 一種恐慌人群逃生模擬方法 | ZL201410566003.1 | 授權(quán) | 2014/10/22 | 2017/9/26 |
11 | 發(fā)明 | 泡沫狀碳納米管材料、制備方法、散熱結(jié)構(gòu)及測(cè)定方法 | ZL201410188697.X | 授權(quán) | 2014/5/6 | 2015/7/29 |
12 | 發(fā)明 | 一種基于階梯波的多卷波電路 | ZL201310713483.5 | 授權(quán) | 2013/12/23 | 2017/1/18 |
13 | 發(fā)明 | 一種基于Hadoop的車輛擁擠度獲取方法 | ZL201310688009.1 | 授權(quán) | 2013/12/16 | 2017/5/24 |
14 | 發(fā)明 | 一種單管軟開關(guān)BUCK變換器 | ZL201310652645.9 | 授權(quán) | 2013/12/5 | 2016/3/2 |
15 | 發(fā)明 | 一種具有P型輔助埋層的半超結(jié)VDMOS | ZL201310638191.X | 授權(quán) | 2013/11/27 | 2016/2/3 |
16 | 發(fā)明 | 一種非確定性資源需求多播虛擬網(wǎng)絡(luò)的抗毀映射方法 | ZL201310602579.4 | 授權(quán) | 2013/11/25 | 2016/6/22 |
17 | 發(fā)明 | 一種FS-IGBT器件陽(yáng)極的制造方法 | ZL201310585511.X | 授權(quán) | 2013/11/19 | 2016/3/23 |
18 | 發(fā)明 | 一種通過云平臺(tái)到數(shù)據(jù)中心的查詢系統(tǒng)及方法 | ZL201310578744.7 | 授權(quán) | 2013/11/18 | 2016/6/22 |
19 | 發(fā)明 | 一種業(yè)務(wù)需求感知的虛擬數(shù)據(jù)中心映射方法 | ZL201310488026.0 | 授權(quán) | 2013/11/17 | 2016/10/26 |
20 | 發(fā)明 | 一種節(jié)能數(shù)據(jù)中心的虛擬機(jī)遷移方法 | ZL201310487895.1 | 授權(quán) | 2013/11/17 | 2015/12/23 |
21 | 發(fā)明 | 一種寬元胞絕緣柵雙極型晶體管 | ZL201310568187.0 | 授權(quán) | 2013/11/14 | 2015/11/18 |
22 | 發(fā)明 | 一種剛撓結(jié)合印制電路板的制備方法 | ZL201310534682.X | 授權(quán) | 2013/11/1 | 2016/6/1 |
23 | 發(fā)明 | 具有空穴復(fù)合層的IGBT終端結(jié)構(gòu)及其制備方法 | ZL201310422648.3 | 授權(quán) | 2013/9/17 | 2016/2/3 |
24 | 發(fā)明 | 一種絕緣柵雙極型晶體管 | ZL201310420417.9 | 授權(quán) | 2013/9/16 | 2016/3/2 |
25 | 發(fā)明 | 一種超結(jié)功率器件及其制造方法 | ZL201310420420.0 | 授權(quán) | 2013/9/16 | 2016/5/11 |
26 | 發(fā)明 | 一種橫向高壓超結(jié)功率半導(dǎo)體器件 | ZL201310421765.8 | 授權(quán) | 2013/9/16 | 2016/4/20 |
27 | 發(fā)明 | 一種車載自組織網(wǎng)絡(luò)單接口多信道切換方法 | ZL201310406497.2 | 授權(quán) | 2013/9/9 | 2016/3/23 |
28 | 發(fā)明 | 一種基于流的網(wǎng)絡(luò)接入控制方法 | ZL201310397842.0 | 授權(quán) | 2013/9/5 | 2016/5/18 |
29 | 發(fā)明 | 一種動(dòng)態(tài)障礙物影響下流體的仿真方法 | ZL201310396034.2 | 授權(quán) | 2013/9/4 | 2016/7/6 |
30 | 發(fā)明 | 一種流體環(huán)境下的關(guān)節(jié)動(dòng)畫建模技術(shù) | ZL201310387419.2 | 授權(quán) | 2013/8/30 | 2016/8/31 |
31 | 發(fā)明 | 一種橫向高壓MOSFET及其制造方法 | ZL201310356773.9 | 授權(quán) | 2013/8/16 | 2017/7/28 |
32 | 發(fā)明 | 一種低溫共燒陶瓷LTCC限幅濾波器 | ZL201310355803.4 | 授權(quán) | 2013/8/15 | 2016/8/31 |
33 | 發(fā)明 | 一種集成肖特基二極管的槽柵VDMOS器件 | ZL201310350487.1 | 授權(quán) | 2013/8/13 | 2016/8/31 |
34 | 發(fā)明 | 一種部分SOI超結(jié)高壓功率半導(dǎo)體器件 | ZL201310345306.6 | 授權(quán) | 2013/8/9 | 2014/3/12 |
35 | 發(fā)明 | 一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法 | ZL201310322790.0 | 授權(quán) | 2013/7/29 | 2016/6/8 |
36 | 發(fā)明 | 一種RC-IGBT器件及其制作方法 | ZL201310300668.3 | 授權(quán) | 2013/7/17 | 2015/12/23 |
37 | 發(fā)明 | 一種RC-LIGBT器件及其制作方法 | ZL201310300568.0 | 授權(quán) | 2013/7/17 | 2015/9/9 |
38 | 發(fā)明 | 一種具有結(jié)型場(chǎng)板的功率LDMOS器件 | ZL201310202668.X | 授權(quán) | 2013/5/28 | 2015/10/21 |
39 | 發(fā)明 | 一種具有結(jié)型場(chǎng)板的SOI功率LDMOS器件 | ZL201310202568.7 | 授權(quán) | 2013/5/28 | 2015/7/29 |
40 | 發(fā)明 | 具有肖特基接觸終端的快恢復(fù)二極管 | ZL201310179865.4 | 授權(quán) | 2013/5/15 | 2016/3/23 |
41 | 發(fā)明 | 一種超低比導(dǎo)通電阻的橫向高壓功率器件及制造方法 | ZL201310177386.9 | 授權(quán) | 2013/5/14 | 2015/6/17 |
42 | 發(fā)明 | 一種橫向高壓功率器件的結(jié)終端結(jié)構(gòu) | ZL201310174274.8 | 授權(quán) | 2013/5/13 | 2015/6/17 |
43 | 發(fā)明 | 絕緣柵雙極型晶體管均流輸出電路 | ZL201310136045.7 | 授權(quán) | 2013/4/18 | 2015/7/29 |
44 | 發(fā)明 | 一種橫向高壓功率半導(dǎo)體器件的結(jié)終端結(jié)構(gòu) | ZL201310078793.4 | 授權(quán) | 2013/3/13 | 2015/4/15 |
45 | 發(fā)明 | 一種超結(jié)LDMOS器件 | ZL201310077827.8 | 授權(quán) | 2013/3/12 | 2015/6/24 |
46 | 發(fā)明 | 一種碳微納米材料與氮化鋁的復(fù)合薄膜的制備方法 | ZL201310015091.1 | 授權(quán) | 2013/1/16 | 2015/4/15 |
47 | 發(fā)明 | 一種槽型半導(dǎo)體功率器件的制造方法 | ZL201210226462.6 | 授權(quán) | 2012/7/3 | 2013/1/9 |
48 | 發(fā)明 | 一種具有低導(dǎo)通壓降的P-i-N二極管 | ZL201210191065.X | 授權(quán) | 2012/6/12 | 2014/6/18 |
49 | 發(fā)明 | 一種低開啟電壓二極管 | ZL201210186331.X | 授權(quán) | 2012/6/7 | 2015/5/27 |
50 | 發(fā)明 | 一種雙陽(yáng)極短接的IGBT器件 | ZL201210068388.X | 授權(quán) | 2012/3/15 | 2014/1/15 |
51 | 發(fā)明 | 一種積累型槽柵二極管 | ZL201210049361.6 | 授權(quán) | 2012/2/29 | 2014/6/4 |
52 | 發(fā)明 | 一種具有P型埋層結(jié)構(gòu)的槽柵二極管 | ZL201210049388.5 | 授權(quán) | 2012/2/29 | 2013/3/13 |
53 | 發(fā)明 | 一種具有優(yōu)化雪崩擊穿電流路徑的超結(jié)MOSFET器件 | ZL201110386133.3 | 授權(quán) | 2011/11/29 | 2013/9/25 |
54 | 發(fā)明 | 一種垂直雙擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管 | ZL201110351748.2 | 授權(quán) | 2011/11/9 | 2013/5/29 |
55 | 發(fā)明 | 一種在金屬鎳基片上生長(zhǎng)氧化物鐵電薄膜的方法 | ZL201110051845.X | 授權(quán) | 2011/3/4 | 2011/7/27 |
56 | 發(fā)明 | 一種基于熱流耦合分析技術(shù)的硫化爐的設(shè)計(jì)方法 | ZL201010618956.X | 授權(quán) | 2010/12/31 | 2011/12/14 |
57 | 發(fā)明 | 一種氧化鋅納米線陣列的制備方法 | ZL201010609908.4 | 授權(quán) | 2010/12/28 | 2012/9/19 |
58 | 發(fā)明 | 一種管絞機(jī)滾筒 | ZL201010604825.6 | 授權(quán) | 2010/12/24 | 2011/7/27 |
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